飞秒光纤激光器实现可靠的晶圆切割
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在高扫描速度下,用高重复频率的飞秒光纤激光器切割晶圆,明显比用纳秒激光器切割的晶圆具有更高的断裂强度。
半导体芯片和封装正在向更高密度的互连方向发展。融入半导体芯片(如处理器和存储器)中的复杂的材料成份,对封装技术提出了新的要求。目前,传统的机械晶圆切割技术仍占据主导地位,但是当切割厚度小于100µm的晶圆时,机械晶圆切割方法会受到一定的限制。随着芯片中的线宽越来越窄,以及低k电介质绝缘薄膜的使用日益增多,传统的机械晶圆切割技术只能勉强满足下一代集成电路的生产需求。
在过去十年间,业界一直在研究激光晶圆切割技术,以克服传统的机械晶圆切割技术的局限性。研究发现,紫外(uv)纳秒激光器对具有脆弱的后端互连的晶圆进行切割时,在产量和可靠性方面都比传统的机械晶圆切割技术大为提高。但是,纳秒激光切割所产生的热效应将降低晶圆的断裂强度,从而降低了最终器件的寿命和可靠性。[1]为了解决这些问题,美国imra公司利用超短脉冲光纤激光器切割晶圆,与传统的机械切割技术相比,这种方法获得了更高的晶圆断裂强度,同时还能满足业界对产能和成本的要求(见图1)。
图4:sem图片表明,当采用“双脉冲”以4m/s的扫描速度切割晶圆时,端面质量较差,同时碎片明显增加。