UV局部上光工艺

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uv局部上光工艺的关键是将上光版与印好的图案精确套准，迈克法是解决这一问题的有效方法。
迈克法是用一系列测试版校正上光版对印刷机组的位置，即确定上光版的轮廓线。根据这种轮廓线通过绘图仪、切割机制作出迈克版。版材的性能应能比传统上光版输送更多的上光液，同时，又能比较容易地同承印物分离。迈克法的优点是，能够在机外快速制作局部上光版，不仅套印准，而且制作成本相对较低。